产品介绍
VTC-200-CE半柜式清洗机采用直线导轨控制柱状液流沿 wafer.半径方向来回扫动,同时配备有去离子水淸洗和氮气吹干功能,采用高精度伺服电机控制 wafer的旋转,由七寸全彩触屏进行操作,全不锈钢机柜,耐腐蚀透明观察盖,丝杆直线导轨,不锈钢内腔,设计合理,经久耐用。伺服马达控制旋转速度和时间,自动控制显影、清洗和吹干,显影/清洗均匀性和重复性好。
产品特点
不锈钢半柜式设计,触摸屏操作
透明观察窗,带排废和抽风功能
可移动式直线导轨清洗,行程可定制
最多可配备四路清洗或氮气吹干系统
可处理最大基片尺寸为8寸晶圆,向下兼容
更大尺寸可定制
技术参数
旋转速度可调范围 | 20-10000rpm |
加速度可调范围 | 0-50000rpm/s |
标配直线导轨行程 | 100mm;最大移动速度:100mm/s |
产品规格 | 尺寸:940mm(长)×800mm(宽)×1100mm(高) |
标配两路喷液系统,扇形或柱形喷嘴可选
标配10L不锈钢压力桶两只,其它规格可选
清洗液或氮气加温系统可选配