沈阳科晶 磁控溅射镀膜仪 GSL-1100X-SPC-16M

产品介绍

GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应，使得靶材原子或分子从固体表面射出，在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积（PVD）制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备，适用于实验室各种复合膜样品的制备，以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用，且设备体积小巧，节约实验室空间；操作简单，适合初学人员使用。

产品特点

设有真空表、溅射电流表，可实时监控工作状态。

通过调节溅射电流控制器、微型真空气阀，控制真空室压强、电离电流及选择所需要的电离气体，以获得最佳镀膜效果。

钟罩边缘橡胶密封圈采用特殊设计，可保证长期使用不出现玻璃钟罩崩边现象。

陶瓷密封高压电极接头比通常采用的橡胶密封更经久耐用。

根据电场中气体电离特性，采用大容量溅射真空室和相应面积溅射靶，使溅射镀层更均匀纯净。

溅射头采用Peltier制冷技术，可得到高性能、精细颗粒的涂层。

可用水冷溅射头、水冷载物台。

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

水：设备需选配自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（带减压阀）

工作台：尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上

通风装置：不需要

技术参数

标准配件

金靶材1个、进气针阀1个、保险丝2个

可选配件

金、铟、银、铂等各种靶材