产品介绍
450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。
系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。
技术参数
极限真空度 | ≤6.7×10 Pa |
恢复真空时间 | 从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min |
系统漏率 | 6. 7×10-7Pa.L/S; |
真空室 | 真空室500x500 x600mm采用U型箱体前开门,后置抽气系统e型电子枪:阳极电压:6kv、8kv(1套) |
坩埚 | 水冷式坩埚,四穴设计,每个容量11ml |
功率 | 0-6KW可调 |
电阻蒸发源(可选) | |
电压 | 5、10V |
功率 | 电流300A,最大输出功率3Kw1套,可切换水冷电极3根,组成2个蒸发舟 |
基片尺寸 | 可放置4″基片 |
样品台 | 基片可连续回转,转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm加热最高温度 800°C±1°C,可调手动控制样品挡板组件1套 |
气路系统 | 质量流量控制器1路 |
石英晶振膜厚控制仪 | 监测膜厚显示范围:0-99μ9999Å |