沈阳科晶 电子束蒸镀 GSL-ZDDZS-500

产品介绍

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。广泛应用于大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作及清理方便的优点,还具有蒸镀速率快，电子束定位准确能量密度高，可以避免坩埚材料的污染等特点。

产品特点

• 由于电子束定位准确能量很高，可蒸发难熔金属或化合物，蒸发速率快；

• 体积小，操作简便可以非常容易的放置材料和清理；

• 蒸发材料放置在水冷铜坩埚中，可避免坩埚材料的污染，制备高纯薄膜；

• 由于蒸发物面积小，因而热辐射损失小，热效率高；

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

水：设备配有自循环冷却水机，水温小于25℃，水压0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注纯净水或者去离子水）；

电：AC380V 50Hz，功率大于10KW，波动范围：小于±6％，必须有良好接地（对地电阻小于2Ω）；

气：设备腔室内需充注氮/氩气（纯度99.99%以上），需自备氮/氩气气瓶（自带Ø10mm双卡套接头）及减压阀

场地面积：设备尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上

通风装置：需要（外排废气管道）；

技术参数

真空腔体

U型真空室尺寸Ф500X600mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；
真空腔体前开门铰链结构，方便取、放样品；
前开门设有两个观察窗接口，可以观察电子枪和基片；
设备预留膜厚仪接口，可选配膜厚仪；
高真空分子泵机组，闸板阀隔断（也可使用高真空挡板阀）；

标准配件

电源控制系统1套、真空获得机组1套、真空测量1套、电子枪1套