沈阳科晶 四靶磁控溅射仪 VTC-600-4HD

产品介绍

VTC-600-4HD四靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-4HD四靶磁控溅射仪配置四个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，三个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

产品特点

• 配置四个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任意调换）。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

• 整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。

• 可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪。

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），  自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀

工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

通风装置：需要

技术参数

标准配件

可选配件